希ガスやハロゲンなどの混合ガスを用いて発生されるレーザ(装置)。代表的な発振波長には以下のものがあります。
XeF(キセノン・フッ素) 351 nm
XeCl(キセノン・塩素) 308 nm
KrF(クリプトン・フッ素) 248 nm
ArF(アルゴン・フッ素) 193 nm
希ガスやハロゲンなどの混合ガスを用いて発生されるレーザ(装置)。代表的な発振波長には以下のものがあります。
XeF(キセノン・フッ素) 351 nm
XeCl(キセノン・塩素) 308 nm
KrF(クリプトン・フッ素) 248 nm
ArF(アルゴン・フッ素) 193 nm