投影露光は、半導体製造プロセスにおいて、微細なパターンを半導体基板上に形成するために使用される技術の一つです。

半導体基板上にUV（紫外線）光を照射することで、フォトレジストと呼ばれる光に敏感な材料にパターンを形成します。フォトレジストは、UV光を当てると化学反応が起こり、露光した箇所が溶解したり、硬化したりします。その後、露光された箇所をエッチングなどのプロセスで取り除き、残った部分には微細なパターンが形成されます。

投影露光には、ステッパーという装置が使用されます。ステッパーは、マスクと呼ばれるシリコンウェハー上にパターンを形成したものを、紫外線を照射して半導体基板上に写し取る装置です。これらは半導体製造において欠かせないプロセスであり、高度な技術が求められます。