光洗浄は、ドライ洗浄法の一つでレーザー光を用いてガラスやウェハなどの表面に付着した有機物を除去する技術です。

半導体製造プロセスなどに用いられています。

紫外光は酸素と反応して活性種を生成し、有機物を酸化して気化させます。そのため有機物汚染に対しては有効ですが、無機物汚染に対しては効果的ではなく、ウエット洗浄と組み合わせて使用されることが多いです。

また化学洗浄に比べて環境負荷が低いこともメリットの一つです。