プロキシミティ露光とは、半導体や液晶などの製造に使われる技術の一つです。

レジスト（光感性樹脂）に紫外線を照射し、パターンを形成します。
その際、レジストとフォトマスク（パターンを形成するための板）の間に微小な隙間を設け、レジストに光を届けることで、細かなパターンを形成します。

プロキシミティ露光のメリットは、マスクとワークが接触しないため汚れや傷がつきにくいこと、
またフォトリソグラフィーと比較してパターン形成に必要な時間が短くて済むため生産性が高いという利点があります。

反面、解像度を上げることが難しく、また微小な隙間を作るための制御が非常に難しいといったデメリットもあります。